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半導体フォトレジスト材料開発の歴史をわかりやすく説明

半導体材料のひとつであるフォトレジストについて、半導体製造プロセスの中でどのように使用されるのか、フォトレジストとはどのような化合物でどのような働きをするのか、わかりやすく説明します。 フォトレジストは光が照射された部分とされなかった部分で

2024/08/11 10:15

分子レジスト（分子ガラスレジスト）とは？ LERを改善させる新しいフォトレジスト

半導体の微細化に伴い、フォトレジスト材料への要求水準が高くなっています。一般的なフォトレジストはマトリックスとして高分子化合物を使用していますが、フォトレジストの性能を改善するために低分子化合物をマトリックスとする分子レジスト（分子ガラスレ

2024/08/11 10:15

メタルレジストとは？ 最先端半導体EUV露光プロセス用のフォトレジスト

フォトレジストは、マトリックス組成物に応じて有機系と無機系に分類できます。従来は主に有機系フォトレジストが使用されてきましたが、有機系フォトレジストには、EUV光源に対する吸収効率が低い、エッチングに対する耐性が低い、機械的強度が低い、LE

2024/08/11 10:15

EUV用フォトレジスト材料

EUV露光によるリソグラフィーは最先端の半導体微細加工技術で、今後の半導体性能の向上に欠かせない技術です。このEUVリソグラフィーに必須の材料が、EUVフォトレジストです。 最先端のEUV技術には、その他の光源にはない特徴があります。その特

2024/08/11 10:15

中国はバイデンの技術制裁に打撃を与えてマイクロチップの突破口を作る

The Telegraph, 4 September 2023 ファーウェイの最新端末のチップは、欧州の秘密技術を使って製造された模様 ファーウェイのメイト60のメイン・プロセッサー・チップは、現在貿易制限の対象となっているテクノロジーを使って製造されていた CREDIT: ...

2023/09/05 04:27

半導体製造ツール「Centura Sculpta」、中国にさらなる遅れをもたらす

米アプライド マテリアルズ、先端ノードチップ製造のコストを大幅に削減するパターン形成の新機軸を発表 Scott Foster Asia Times 2023年3月10日 米国のエンジニアリング会社アプライド・マテリアルズの新しいパターン形成ツールは、中国が最先端の半導体製造技術に追いつくことがいかに難しいかを示している。2月28日に発表されたCentura Sculptaは、最先端のプロセスノードで集積回路を製造するために使用されるEUV（極端紫外線）リソグラフィーの工程数を減らし、複雑さとコストの両方を大幅に削減することを可能にするものである。米国の制裁措置により、中国へのEUVリソグラフィ…

2023/03/10 23:23